スパッタ法による窒化シリコン膜の作製(III) プラズマ発光分析; スパッタ法による窒化シリコン膜の作製(III) プラズマ発光分析; Preparation of Silicon Nitride Film by Sputtering Method(III). Optical Emission Spectroscopy of Plasma.
Abstract
- Publication:
-
Journal of the Vacuum Society of Japan
- Pub Date:
- 1993
- DOI:
- 10.3131/jvsj.36.615
- Bibcode:
- 1993JVSJ...36..615S