誘導結合型RF放電プラズマにおける電子密度ヒステリシス特性の磁界による制御; 誘導結合型RF放電プラズマにおける電子密度ヒステリシス特性の磁界による制御; Control of Electron Density Hysteresis in Inductively Coupled RF Discharge Plasma by Adding Magnetic Field
Abstract
- Publication:
-
IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials
- Pub Date:
- 2000
- DOI:
- 10.1541/ieejfms1990.120.8-9_845
- Bibcode:
- 2000IJTFM.120..845M